DQ-500系列等离子去胶机的真空腔采用石英管结构，适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、彻底、速率快、成品率高、处理后无酸气废水等残留等特点。该设备采用国内最优射频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。
　　主要配置及技术指标：
　　l　　　 电源：单相220V 50Hz，2KW
　　l　　　 射频源：国产， f=13.56MHz 50～500W连续可调，全自动匹配
　　l　　　 气体控制：氧气和氮气气两路，美国进口浮子流量计控制
　　l　　　 真空获得方式：2L机械泵
　　l　　　 真空度：优于-100KPa
　　l　　　 气体流量：0～5L/min
　　l　　　 真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
　　l　　　 产能：每次20片（2"-4"）
　　l　　　 触摸屏+PLC控制
　　l　　　 控制方式：自动/手动，自动模式下可实现一键完成整个工艺过程
　　l　　　 整机采用松下plc和触摸屏控制
　　反射自动匹配
　　l　　　 最大负荷电流：10ARMS
　　l　　　 最大负荷电压：200VRMS
　　l　　　 传输效率：>90％
　　l　　　 匹配时间：3～5s
　　l　　　 可匹配阻抗实部范围：1～500Ω
　　l　　　 可匹配阻抗虚部范围：－j200～＋j200
　　l　　　 主电容：空气电容